MT270UV

    掩膜关键尺?(CD) 测量系统

    高精度紫外光学量测解决方案，助力先进掩膜制造工艺

    MT270UV 是专为半导体掩膜制造中的关键尺?(Critical Dimension, CD)测量?设计的?性能光学量测系统，?持最?尺?达9英?的掩膜测量，覆盖?65nm节点的先进晶圆制造需求。


    该系统采??稳定性紫外光源，并对光学测量系统进?深度优化，使关键尺?测量的重复性优于2nm，确保测量结果的?度?致性与可靠性。


    凭借超过20年的技术积累与持续优化，MT270UV 已在全球主流掩膜制造企业实现?泛部署与验证，成为?业内公认的标准化关键尺?测量7c娱乐。其成熟、稳定、可靠的性能表现，为掩膜制造过程中的质量控制提供了坚实保障。

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    方案优势

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      高精度量测

      低至2nm的量测重复性精度

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      灵活易用

      产品具备GDS功能，操作方便，易用

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      成熟，稳定，可靠

      低COO，易维护，无短周期消耗品，长期稳定可靠

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